随着芯片技术的不断精进，摩尔定律的尽头似乎渐行渐近，但芯片制造商仍在挑战物理极限的边界。从3纳米制程迈向2纳米，再到1.4纳米，直至1纳米制程——这一里程碑被认为是摩尔定律的物理极限所在。
据10月31日的报道，台湾《工商时报》披露，继竹科2纳米工厂的规划之后，台积电即将启动先导项目，计划将最新2纳米以下（1纳米）制程落户于新竹科学园区旗下的桃园龙潭园区。
面对这一消息，竹科管理局长王永壮透露，在厂商正式公布之前，关于个别厂商的布局情况不便透露。但他指出，仅就龙潭园区而言，第一期事业专用区的用地已经接近饱和，第二期主要规划为公园和绿地等开放空间。若未来有新厂寻求入驻，确实需要启动第三期基地的评估规划工作。据此推测，台积电已为1纳米制程做好规划，但正式量产可能要推迟至2027年。
要实现1纳米制程的量产，下一代EUV光刻机的研发显得尤为关键。据悉，ASML的下一代EUV光刻机试验型号预计明年开始出货，并于2025年后正式投入生产，这一时间线与台积电的计划基本吻合。然而，这种先进的光刻机价格可能高达4亿美元以上。
