光绘

光绘，又称光化学蚀刻，是一种利用光照射在光敏材料上，通过光化学反应来刻画电路图形的技术。这种技术通常用于半导体制造和印刷电路板（PCB）的制造。在光绘过程中，光敏材料在光照射下发生化学变化，未被光照的部分在后续的蚀刻液中溶解，从而形成所需的电路图案。光绘技术具有精度高、效率快的特点，是现代电子制造业中不可或缺的关键工艺。