EUV

EUV，全称为Extreme Ultraviolet Lithography，即极紫外光刻技术。这是一种先进的半导体制造技术，用于生产微电子芯片。EUV光刻利用极紫外光（波长为13.5纳米）来缩小半导体芯片上的特征尺寸，实现更高密度的集成。 传统的光刻技术使用波长更长的光源（如深紫外光或可见光），但EUV光刻能够实现更小的线宽，从而提高芯片的性能和能效。该技术通过一个巨大的反射镜系统，将EUV光源聚焦到硅片上，实现精确的图案转移。EUV光刻技术被认为是制造7纳米以下制程芯片的关键技术之一。 EUV光刻设备成本极高，技术难度大，但其在半导体行业的重要性不言而喻。随着5G、人工智能等新兴技术的快速发展，EUV光刻技术将在未来半导体产业中扮演越来越重要的角色。