4nm工艺

4nm工艺，指的是半导体制造技术中，晶体管特征尺寸为4纳米的制造工艺。在这个尺寸级别，晶体管极其微小，大约只有人类头发直径的万分之一。采用4nm工艺，可以使得半导体器件的性能得到显著提升，功耗大幅降低，同时提高集成度，即在一个芯片上可以集成更多的晶体管。 这种工艺在制造过程上需要更高的精度和更先进的设备，如极紫外光（EUV）光刻机等。4nm工艺的引入，标志着半导体产业向更高效能、更低能耗的方向发展，对于推动电子设备小型化、高性能化具有重要意义。然而，随着工艺尺寸的不断缩小，技术挑战也在增加，如量子效应、热管理等问题需要进一步解决。