2nm工艺

2nm工艺指的是半导体制造技术中的一个重要节点，即制造过程中晶体管的最小特征尺寸为2纳米。这一尺寸远小于之前的工艺制程，意味着在同样大小的硅片上可以集成更多的晶体管，从而提升芯片的性能和能效比。2nm工艺采用了一系列先进的技术，包括极紫外（EUV）光刻、极端的化学气相沉积（CVD）等，这些技术使得在硅片表面形成更精细的图案成为可能。随着2nm工艺的推进，芯片的性能将进一步提升，功耗将更低，这对于推动电子产品的小型化、智能化具有重要意义。然而，2nm工艺的制造难度大、成本高，对材料、设备、工艺控制等方面提出了更高的要求。