光刻机

光刻机是一种用于半导体制造的关键设备，其主要功能是将集成电路设计图案转移到硅片上的过程。这一过程是半导体制造中的核心技术之一，被誉为“半导体工业的皇冠上的明珠”。 光刻机通过紫外线或其他光源照射到硅片上，利用光刻胶对光线的敏感特性，将图案转移到硅片表面。光刻技术经过多次曝光和蚀刻过程，最终在硅片上形成微小的电子器件结构。 随着半导体工艺的不断进步，光刻机的分辨率要求越来越高，目前主流的光刻机分辨率已达到纳米级别。光刻机主要由光源系统、光刻头、物镜、对准系统、工作台等组成。光源系统负责产生高强度的光束，光刻头负责将光束照射到硅片上，物镜负责聚焦光束，对准系统确保图案精准对齐，工作台则承载着硅片。 光刻机在半导体产业中具有举足轻重的地位，其性能直接影响着集成电路的性能和成本。我国光刻机产业近年来取得了显著进展，但仍需加大研发投入，提高国产光刻机的市场份额。